NỘI DUNG TÀI LIỆU

Ảnh hưởng của chất khí làm việc tới đặc tính điện học của tia plasma
áp suất khí quyển (APPJ)

Tác giả: Trương Văn Nhân
Năm: 2025
Thể loại: Báo cáo khoa học
Lĩnh vực: KH Kỹ thuật và CN / Kỹ thuật điện, kỹ thuật điện tử, kỹ thuật thông tin
Mô tả: - Mô hình tạo tia plasma áp suất khí quyển đặt tại phòng thí nghiệm cao áp, trường
Đại học Sư phạm Kỹ thuật.
- Kết quả cho thấy sự tối ưu hóa điện áp và lưu lượng khí argon có thể cải thiện
tính ổn định và hiệu quả của quá trình phóng điện trong tia plasma áp suất khí quyển.
x
Đặc biệt, khi điện áp tăng, dòng điện và công suất tức thời cũng tăng, giúp plasma duy
trì bền vững hơn.
- Đồ thị Lissajous (Q-V) được sử dụng để phân tích chi tiết mối quan hệ điện tích
- điện áp, giúp xác định rõ hơn các điểm "bật" và "tắt" của plasma, đồng thời cung cấp
góc nhìn mới về đặc tính điện học và độ ổn định của plasma. Kết quả này là nền tảng
quan trọng để tối ưu hóa plasma khí quyển cho các ứng dụng yêu cầu sự ổn định cao.
- Ứng dụng tiềm năng trong y tế và nông nghiệp: Với tính chất ổn định và hiệu
quả, mô hình này mở ra cơ hội cho các ứng dụng trong nhiều lĩnh vực như y tế (khử
trùng và xử lý bề mặt) và nông nghiệp (kích thích nảy mầm và sinh trưởng cây trồng.
- Định hướng phát triển mô hình trong các nghiên cứu tiếp theo: Các phát hiện từ
nghiên cứu chỉ ra rằng việc tối ưu và lựa chọn các thiết bị, c
Download: <File>